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谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 1 证券研究报告 行业研究 /深度研究 2018年 02月 12日 有色金属 增持（维持） 稀有金属 中性（维持） 李斌 执业证书编号： S0570517050001 研究员 libinhtsc 邱乐园 执业证书编号： S0570517100003 研究员 010-56793945 qiuleyuanhtsc 孙雪琬 0755-82125064 联系人 sunxuewanhtsc 1有色金属 : 锂板块情绪改善，关注低估值龙头 2018.02 2南山铝业 (600219,增持 ): 深耕铝加工，业绩增长稳定 2018.02 3有色金属 : 新能 源景气下锂仍具备催化，把握板块回调契机 2018.02 资料来源： Wind “靶”关之材，国产替代进行时 电子材料系列 1：溅射靶材行业报告 “靶”关之材，步入国产替代进程 靶材是薄膜制备的关键原料之一， 2016 年全球市场规模 113.6 亿美元，国际半导体贸易协会（ WSTS）预计 2016-2019 复合增速为 13%，主要需求增量来自半导体、显示、太阳能。靶材行业的技术和客户壁垒较高， 2017日美少数企业占据 80%市场。随着国内产业政策扶持、半导体和显示产业向大陆转移等利好，国内靶材企业已打破国外垄断，成功切入全球主流半导体、显示龙头供应链，国产替代进程加速。我们看好国内靶材企业全球市场份额的提升，建议关注江丰电子、有研新材、阿石创、隆华节能。 预计 2016-2019 全球靶材增速 13%，半导体、显示、光伏为主要增长动力 随着磁控溅射技术发展，高纯溅射靶材成为制备薄膜材料的关键原料之一，主要应用于 平板显示、记录媒体、电子器件半导体、太阳能、镀膜玻璃等；靶材的 纯度、组织、晶粒尺寸等明显制约镀膜质量。 WSTS 数据显示， 2016年全球溅射靶材市场需求达 113.6 亿美元， 并预计 2016-2019 复合增速达13%， 2019 年 将 超过 163 亿美元 。 2016 全球靶材下游结构中，半导体占10%、平板显示占 34%、太阳能电池占 21%、记录媒体占 29%，靶材性能要求依次降 低； 其中前三大应用 需求增速超过靶材整体增速， 是靶材需求增长 的主要 驱动力 。 市场集中度高，日、美占据 80%高端靶材市场 溅射靶材由于其高技术、高投资、高客户壁垒，具有规模化生产能力企业较少，以霍尼韦尔、日矿金属、东曹、普莱克斯等为代表的靶材龙头企业2017 年占据全球约 80%靶材市场。美、日等跨国企业产业链较为完整，囊括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用各个环节，主导高端的半导体靶材市场；韩国、新加坡及中国台湾地区擅长磁记录及光学薄膜领域，原料多从国外进口；中国靶材产业正处于起步阶段，逐步切入全球主流半导体、显示、光伏等龙头企业客户，原料以进口为主。 国内靶材需求和供给反差悬殊，国产替代进程加速 2015 国内靶材需求全球占比近 25%，年增速约 20%；但国内靶材企业市场份额不到 2%，供需比例反差明显。随着国内溅射靶材技术的成熟和高纯铝生产技术的提高，我国靶材生产成本优势明显 ，靶材原料之一高纯铝的国内进出口量差距也在逐步缩小。随着 2019 年国家进口靶材免税期结束，国内靶材企业优势更加突出。此外国家政策鼓励半导体和显示产业发展，我们预计 2018-2020 年国内靶材需求将维持 20%以上高速增长，市场份额有望进一步扩大。 国产靶企业异军突起，产能扩张正当时 伴随靶材产业发展，我国出现少量专业从事高纯溅射靶材研发和生产的企业，参与国际化竞争。建议关注标的： 1）江丰电子：国内半导体靶材龙头，成功打破日、美垄断，并开始布局显示靶材。 2）有研新材：有研集团控股企业，材料研发实力雄厚，实现半 导体高纯金属和靶材一体化供应。 3）阿石创：国内平面显示靶材领先企业，伴随显示产业发展机遇，快速扩建产能。 4）隆华节能：收购四丰电子、广西晶联，显示靶材成为新增长极。 风险提示： 半导体、显示和薄膜太阳能电池对靶材需求增速不及预期。 (16)(5)6172817/02 17/04 17/06 17/08 17/10 17/12(%)有色金属 沪深 300一年内行业走势图 相关研究 行业评级： 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 2 正文目录 “靶”关之材，国家级战略产业 . 4 溅射靶材是薄膜制备的关键原料 . 4 磁控溅射技术发展推升靶材需求 . 4 溅射靶材广泛用于半导体、显示、磁记录、光伏等领域 . 4 高制造壁垒铸造“靶”关之材 . 6 靶材纯化：源头材料控制 . 6 靶材制备：严格工艺控制 . 7 靶材性能直接影响溅镀薄膜质量 . 7 全球靶材产业稳步增长，国产替代进程加速 . 8 全球靶材市场稳步增长，市场集中度高 . 8 预计 2016-2019 全球靶材市场增速达 13% . 8 溅射靶材产业分布区域特征明显 . 8 溅射靶材企业集中度高，主要企业占据 80%全球市场 . 9 国内靶材产业加速步入国产替代化进程 . 9 中国靶材市场全球占比有望提升 . 9 国内高纯铝原料进出口量差距缩小 . 10 国产靶材企业异军突起 . 11 靶材需求增长主要驱动力：半导体、显示、薄膜太阳能电池 . 12 平面显示：靶材最大应用市场 . 12 靶材是平面显示各类镀膜制备关键原料 . 12 平板显示是国内拉动溅射靶材需求的主要动力 . 13 2016 年我国平面显示靶材需求全球占比提升至 30%以上 . 13 半导体：靶材应用的战略高地 . 14 国家政策推动半导体产业快速发展 . 15 半导体产业向国内转移，材料步入快速发展期 . 15 2011-2016 全球半导体用靶材复合增长率 3.17% . 16 薄膜太阳能：靶材应用的后起之秀 . 17 光伏产业孕育靶材发展机遇 . 17 我国太阳能靶材有望随薄膜太阳能电池产业快速发展 . 18 靶材主要上市企业简介 . 20 江丰电子（ 300666）：国内半导体溅射靶材龙头，成功打破国外垄断 . 20 有研新材（ 600206）：雄厚材料研发实力，国内高纯金属靶材一体化供应 . 20 阿石创（ 300706）：国内平面显 示靶材领先企业 . 21 隆华节能（ 300706）：环保、军工大布局，显示靶材成为新增长极 . 21 风险提示 . 21 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 3 图表目录 图表 1： 靶材的工作原理 . 4 图表 2： 溅射靶材发展历程 . 4 图表 3： 溅射靶材产业链 . 5 图表 4： 溅射靶材应用分类 . 5 图表 5： 靶材提纯方法 . 6 图表 6： 靶材制备方法 . 7 图表 7： 溅射靶材的性能控制指标 . 7 图表 8： 2014-2016 全球靶材市场规模 . 8 图表 9： 2016 年全球溅射靶材应用结构 . 8 图表 10： 全球主要溅射靶材企业 . 9 图表 11： 近年集成电路行业相关政策 . 10 图表 12： 2009-2016 年我国高纯铝进出口量 . 10 图表 13： 2009-2016 年我国高纯铝产量 . 10 图表 14： 我国溅射靶材相关上市企业 . 11 图表 15： 2012-2017 年我国信息记录材料市场规模 . 12 图表 16： 平面显示行业镀膜工艺 . 12 图表 17： 平面显示靶材品种 . 13 图表 18： 2012-2016 年我国平板显示产业规模增长情况 . 13 图表 19： 2013-2016 年全球平面显示靶材市场规模 . 14 图表 20： 2013-2016 年中国平面显示靶材市场规模 . 14 图表 21： 半导体靶材种类和应用 . 14 图表 22： 半导体主流靶材工艺品种组合 . 14 图表 23： 2012-2016 全球半导体产业市场规模 . 15 图表 24： 2012-2016 中国半导体产业市场规模 . 15 图表 25： 2012-2016 年全球半导体材料市场规模 . 16 图表 26： 2012-2016 年中国半导体材料市场需求 . 16 图表 27： 2011-2016 年全球半导体用溅射靶 材市场规模 . 16 图表 28： 2010-2016 我国半导体芯片用靶材市场规模 . 17 图表 29： 国内在建的 12 寸晶圆制造厂 . 17 图表 30： 薄膜太阳能电池各功能层的靶材种类 . 18 图表 31： 2011-2016 年全球太阳能用靶材市场规模 . 18 图表 32： 晶硅太阳能电池和薄膜太阳能电池特点 . 18 图表 33： 2010-2016 年我国累计光伏装机容量 . 19 图表 34： 2010-2015 年我国薄膜太阳电池产量 . 19 图表 35： 靶材主要上市企业估值表 . 20 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 4 “靶”关之材，国家级战略产业 溅射靶材是薄膜制备的关键原料 溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度流的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基体表面。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。 图表 1： 靶材的工作原理 资料来源：江丰电子招股说明书，华泰证券研究所 磁控溅射技术发展推升靶材需求 溅射技术 19 世纪中期被发明，直到 20 世纪后期才应用于大规模生产。 1842 年格波夫在实验室中发现了阴极溅射现象， 1970 年商业化的磁控溅射设备逐渐应用于实验室和小型生产。自 20 世纪 80 年代，以集成电路、信息存储、液晶显示器、光存储器、电子控制器为主的电子与信息产业开始进入高速发展时期，磁控溅射技术才从实验室应用真正进入工业化规模生产应用领域。 自 20 世 纪 90 年代以来， 随着微 电 子、平板 显 示器、 镀 膜玻璃 、薄膜太阳能、光学薄膜、工具装 饰镀 膜等 领 域突 飞 猛 进 地 发 展，靶 材已逐 渐发 展成 为 一个专业 化 产业 ， 世界的靶材市 场规 模日益 扩 大。特别是近几年随着触摸屏、低 辐 射 节 能（ low-e）玻璃、汽 车产业 、手机 产业 等不断迅猛 发 展， 对 各种功能薄膜、 装 饰 薄膜的需求越来越大，并 且要求越来越高，不断更新 换 代。 图表 2： 溅射靶材发展历程 资料来源：国内外磁控溅射靶材的现状及发展态势，华泰证券研究所 溅射靶材 广泛用于半导体、显示、磁记录、光伏等领域 靶材制造和溅射镀膜是靶材制备的关键环节。 溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节 。 其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节 。 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 5 图表 3： 溅射靶材产业链 资料来源：江丰电子招股说明书，华泰证券研究所 溅射靶材按其化学成分、几何形状和应用领域不同而有多种不同的分类方法。 较常用的分类方法是根据应用领域进行划分，主要包括记录介质靶材、半导体靶材、显示薄膜靶材、超导靶材和光学靶材等； 其中显示靶材、太阳能靶材和半导体靶材是市场增速较快、景气度较高的三类靶材。 图表 4： 溅射靶材应用分类 靶材分类 应用场合 材料 要求 半导体关联靶材 电极、布线膜、扩散阻挡膜、粘附膜、电容器绝缘膜 钨、钨钛、钛、钽、铝合金、铜、硅化物等 靶材要求很高，对杂质含量要求要求较高，价格昂贵 磁记录靶材 垂直磁记录薄膜、硬盘用薄膜、薄膜磁头、人工晶体薄膜 铬、钴、钴铁、镍等 器件高存储密度，高存储速度 太阳能光伏靶材 太阳能电池薄膜 氧化锌铝靶、氧化锌靶、锌铝靶、钼靶、硫化镉靶等 光电转化率高 显示靶材 透明导电膜、电极布线膜、电致发光薄膜 掺锡氧化铟（ ITO）、铌靶、硅靶、铬靶、钼靶、铝靶、铝合金靶、铜靶、铜合金等 显示膜纯度要求高、材料面积大、均匀性好 电子器件靶材 薄膜电阻、薄膜电容 镍铬靶、镍铬硅靶、铬硅靶、钽靶、镍铬铝靶 温度系数小、稳定性好 镀膜玻璃靶材 节能玻璃 银靶、铬靶、钛靶、镍铬靶、锌锡靶、硅铝靶、氧化钛靶 低辐射、节能控光 其他领域：工具装饰靶材、光学薄膜靶材、屏蔽靶材、非导电薄膜靶材、润滑靶材 资料来源：广东省真空学会，华泰证券研究所 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 6 高制造壁垒铸造“靶”关之材 金属靶材的制备中包括材料纯化和靶材制备两个过程。 纯化过程中需确保降低靶材中杂质含量，制备过程需确保靶材表面平整程度。 靶材纯化：源头材料控制 纯度是溅射靶材的基础。 高纯度乃至超高纯度的金属材料是生产高纯溅射靶材的基础，以半导体芯片用溅射靶材为例，若溅射靶材杂质含量过高，则形成的薄膜无法达到使用所要求的电性能，并且在溅射过程中易在晶圆上形成微粒，导致电路短路或损坏，严重影响薄膜的性能。 材料纯化过程中主要方法包括化学提纯化和物理提纯法。 1) 化学提纯法 ： 分为湿法提纯和火法提纯，湿法提纯包括离子交换、溶剂萃取、置换沉淀和电解精炼等；火法提纯包括氯化精馏、碘化热分解、金属有机物热分解、歧化分解、熔析精炼和熔盐电解等。目前应用最多的是 电解精炼提纯 ，其原理是在电解过程中，利用杂质 金属和主金属在阴极上析出电位差异从而达到提纯目的。常见的如高纯Cu、 Co、 Ni、 Ag 和 Ti。 2) 物理提纯法 ： 利用主体金属与杂质物理性质差异，采用蒸发、凝固、结晶、扩散、电迁移等物理过程去除杂质，具体方法包括区域熔融法、偏析提纯法、真空蒸馏法、单晶法和电迁移法，一般此类提纯在真空条件下进行，一些吸气性很强的金属需要在高真空 和超高真空条件下完成提纯，其原理是在此条件下降低气体分子在金属中溶解度从而实现提纯，对于低熔点的 Al、 Cu、 Au 和 Ag 等金属及其合金等采用 真空感应熔炼制备；对于高熔点的 Ti、 Co、 Ta 和 Ni 等金属采用 真空电子束炉或电弧熔 炼制备。 图表 5： 靶材提纯方法 资料来源：高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术，华泰证券研究所 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 7 靶材制备：严格工艺控制 溅射靶材制造环节首先需要根据下游应用领域的性能需求进行工艺设计，然后进行反复的塑性变形、热处理，需要精确地控制晶粒、晶向等关键指标，再经过焊接、机械加工、清洗干燥、真空包装等工序。目前制备靶材的方法主要有铸造法和粉末冶金法。 1) 铸造法： 将一定成分配比的合金原料熔炼，再将合金熔液浇注于模具中，形成铸锭，最后经机械加工制成靶材。铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。其优点是靶材杂质含量 (特别是气体杂质含量 )低，密度高，可大型化；缺点是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属，普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。 2) 粉末冶金法： 将一定成分配比合金原料熔炼，浇注成铸锭后再粉碎，将粉碎形成的粉末经等静压成形，再高温烧结，最终形成靶材。粉末冶金法的优点是靶材成分均匀；缺点是密度低，杂质含量高。常用 的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。 图表 6： 靶材制备方法 资料来源：高纯贵金属靶材在半导体制造中的应用与制备技术，华泰证券研究所 靶材性能直接影响溅镀薄膜质量 靶材制约着溅镀薄膜的物理、力学性能，影响镀膜质量 。 高纯溅射靶材产品主要应用于半导体、 磁记录、 平板显示器以及太阳能电池产业，半导体 产业 对溅射靶材纯度、内部微观结构等方面都设定了 比较苛 刻的标准，对溅射靶材的要求是最高的，价格也最为昂贵；平面显示器、太阳能电池 、磁记录 对于溅射靶材的纯度和技术要求略低一筹，但随着靶材尺寸的增大，对溅射靶材的焊接结合率、平整度等指标提出了更高的要求。 图表 7： 溅射靶材的性能控制指标 性能 对靶材质量影响 杂质低、纯度高 靶材的纯度影响薄膜的均匀性 如果靶材中夹杂物过多，会在晶圆表面留下微粒，导致互联线短路或断路 高致密度 高致密度靶材导电、导热性好、强度高、电阻率低、透光率高 溅射功率小、成膜速率高、薄膜不易开裂、使用寿命长 成分和组织均匀 保证镀膜质量的稳定 晶粒尺寸小 靶材的晶粒尺寸越细小，溅镀薄膜的厚度分布越均匀，溅射速率越快 资料来源：欧凯靶材官方网站，华泰证券研究所 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 8 全球靶材产业稳步增长，国产替代进程加速 全球靶材市场稳步增长，市场集中度高 预计 2016-2019 全球靶材市场增速达 13% 根据全球半导体贸易统计协会（ WSTS）数据， 2016 年全球溅射靶材市场容量达 113.6亿美元， 相比于 2015 年的 94.8 亿美元增长 20%。全球半导体贸易统计协会（ WSTS） 预测 2016-2019 年均复合增长率达 13%， 到 2019 年全球高纯溅射靶材市场规模将超过 163亿美元 。 半导体、显示、太阳能三大应用成为靶材需求增长主要驱动力。 2016 年全球靶材市场的下游结构中，半导体占比 10%、平板显示占 34%、太阳能电池占 21%、记录媒体占 29%，靶材性能要求依次降低。 图表 8： 2014-2016 全球靶材市场规模 图表 9： 2016 年全球溅射靶材应用结构 资料来源：全球半导体贸易统计协会（ WSTS），华泰证券研究所 资料来源：全球半导体贸易统计协会（ WSTS），华泰证券研究所 溅射靶材产业分布区域特征明显 日本、美国：领导高端半导体溅射靶材市场。 溅射靶材最高端的应用是在超大规模集成电路芯片制造领域，具有规模化生产能力的企业数量相对较少，主要分布在美国、日本等国家和地区，产业集中度较高。美国、日本跨国集团产业链完整，囊括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用各个环节，具备规模化生产能力，在掌握先进技术以后实施垄断和封锁，主导着技术革新和产业发展。 韩国、新加坡及中国台湾地区：在磁记录及光学薄膜领域具备一定 优势 。 韩国、新加坡、台湾地区的靶材企业在磁记录、光学薄膜等领域优势明显；但靶材服务厂商普遍缺少核心技术及装备，不能够在金属的提纯、组织的控制等核心技术领域形成竞争力，溅射靶材的材料即靶坯依然依赖美国和日本的进口。 中国：起步阶段迎来投资高峰，半导体和液晶面板向大陆转移趋势明显。 超高纯金属材料及溅射靶材在我国还属于较新的行业，以芯片制造厂商、液晶面板制造企业为代表的下游溅射镀膜和终端用户正在加大力度扩展产能。从全球来看，半导体及液晶面板行业制造向中国大陆转移趋势愈演愈烈，中国正在迎来这一领域的投资高峰。为此高端溅 射靶材的应用市场需求正在快速增长。 0%5%10%15%20%25%0204060801001202014 2015 2016市场规模（亿美元） 增速（右轴）平板显示器34%记录媒体29%半导体10%太阳能电池21% 其他6% 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 9 溅射靶材企业集中度高，主要企业占据 80%全球市场 溅射靶材企业集中度高， 2017 年主要企业占据全球约 80%市场份额。 以霍尼韦尔（美国）、日矿金属（日本）、东曹（日本）等跨国集团为代表的溅射靶材生产商较早涉足该领域，经过几十年的技术积淀，凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于全球溅射靶材市场的主导地位， 2017 年占据约 80%市场份额。 图表 10： 全球主要溅射靶材企业 名称 地区 简介 2017 年市场份额 行业地位 日矿金属 日本 主要产品包括铜箔、复合半导体、金属粉末、溅射靶材等，其中溅射靶材主要用于大规模集成电路、平板显示、相交光盘等 30% 全球最大的靶材供应商，铜靶材占比 80% 霍尼韦尔 美国 并购 JohnsonMatthey 靶材厂 主要靶材包括钛铝靶、钛靶、铝靶、铜靶等。 20% 东曹 日本 溅射靶材在美国、日本、韩国和中国的生产基地生产，主要用于半导体、太阳能发电、平板显示器和磁记录媒体等领域 20% 普莱克斯 美国 溅射靶材主要应用于电子及半导体行业 10% 铝靶材为优势品种 住友化学 日本 主要产品包括滤色镜、光学功能薄膜、彩色光阻剂、导光板、触摸屏面板、溅射靶材等 爱发科 日本 溅射靶材主要应用于平板显示、半导体、太阳能电池等领域，此外爱发科还可以生产 IT0 靶材 资料来源：阿石创招股说明书， WASA，华泰证券研究所 溅射靶材客户市场结构相对分散。 作为溅射靶材客户端的溅射镀膜环节具有规模化生产能力的企业数量相对较多，但质量参差不齐；美国、欧洲、日本、韩国等知名企业居于技术领先地位，品牌知名度高、市场影响力大，通常会将产业链扩展至下游应用领域，利用技术先导优势和高端品牌迅速占领终端消费市场，如 IBM、飞利浦、东芝、三星等。 客户壁垒：严认证、长周期。 高纯溅射靶材企业进入国际市场，需要通过部分国际组织和行业协会设置的质量管理体系标准，例如，应用于汽车电子的半导体厂商要求靶材供应商通过 ISO/TS16949 质量管理体系认证。下游客户往往还会进行合格供应商 认证，认证过程主要包括技术评审、产品报价、样品检测、小批量试用、批量生产等几个阶段，根据国内靶材企业公开资料，一般需要 2-3 年时间。为了降低供应商开发与维护成本，保证产品质量的持续性，客户不会轻易更换供应商。 国内靶材产业加速步入国产替代化进程 中国靶材市场全球占比有望提升 2015 国内靶材市场需求全球占比近 25%，但国内企业市场份额不到 2%。 需求端，近年得益于半导体、平板显示等下游市场向大陆转移的确定性趋势，国内靶材市场需求增速较快，据中国电子材料行业协会统计， 2015 年国内高纯溅射靶材市场的市场需 求规模约 153.5 亿人民币，占全球市场的 24.17%。同比 2014 年的 128.7亿人民币，增长 19.27%。供给端，国内靶材企业市场份额不到全球 2%，供需比例反差较大，有望成为国内溅射靶材企业成长动力；再加上国内溅射靶材市场的高增长和国内溅射靶材企业的本土优势，国内溅射靶材企业的成长空间将有望打开。 2018 年底进口靶材免税期结束，利好国内靶材企业。 2015 年 11 月 财政部、发改委、工信部、海关总署、国家税务总局联合发布关于调整集成电路生产企业进口自用生产性原料、消耗品、免税商品清单的通知，通知规定：进口靶材的免税期到 2018 年年底结束。这意味着从 2019 年开始，日、美靶材需要缴纳 5-8%关税；该项政策明显利好国内靶材企业。 行业研究 /深度研究 | 2018 年 02 月 12 日 谨请参阅尾页重要声明及华泰证券股票和行业评级标准 10 国内电子和材料产业政策扶持靶材产业链发展。 近年来，为推动靶材产业的发展、增强技术创新能力，国家先后出台了多项专项政策和资金支持措施。国家产业政策、研发基金的出台和落实，为溅射靶材行业的快速发展营造了良好的环境。 预计 2018-2020 年 国内溅射靶材市场增速维持在 20%以上。 随着国内溅射靶材技术成熟和高纯铝生产技术的提高，我国靶材生成本优势明显；靶材原料之一高纯铝的国内进出口数量的差距也在逐步缩小。随着 2019 年进口靶材免税期结束，国内靶材企业优势更加突出。此外国家政策鼓励半导体和显示产业发展，也在大规模向大陆转移；从下游需求角度，国内半导体、平面显示、薄膜太阳能产业高速增长，也将支撑国内靶材的需求。综上，我们预计 2018-2020年国内靶材规模增速将不低于 2015年水平，有望维持在 20%增
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